太阳能电池片绕镀现象

2020年4月7日 · 本发明提供了一种太阳能电池片色差和绕镀的测量表征方法,此方法能够迅速且精确地测量太阳能电池片的色差和绕镀,并且输出结果为数字形式,便于统计分析,避免使用传统方法测量带来的人为误差,干扰判断。

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专业团队

我们拥有一支技术精湛的能源专家团队,致力于为您提供最优化的光伏储能解决方案。

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我们采用行业领先的光伏微电网储能技术,保证电力供应的高效性与持续稳定。

个性化方案

根据每个客户的具体需求,定制专属的高效储能系统方案,提升能源管理效率。

全天候支持

我们提供7*24小时的技术支持,保障您的储能系统始终高效、安全运行。

节能高效

我们提供的光伏储能解决方案,助力您降低能源成本,推动绿色可持续发展。

长期可靠

所有储能系统都经过严格测试,确保为您提供长期稳定、高效的能源保障。

客户评价

客户如何评价我们的太阳能储能解决方案

5.0

“自从安装了他们的太阳能储能系统,我们的能源管理变得更加高效,电力成本显著降低,整个过程顺利且无缝衔接,非常满意!”

4.9

“他们提供的定制化太阳能储能解决方案完美契合我们的需求,技术团队专业可靠,帮助我们实现了全天候稳定的电力供应。”

5.0

“这个太阳能微电网储能系统不仅环保高效,还帮助我们优化了能源使用,服务支持也非常及时到位,值得信赖的合作伙伴!”

立即行动!

立即开启您的智能微电网储能之旅,与我们一起实现能源管理的全新突破。

应用场景

客户案例

海岛智能太阳能微电网能源解决方案

通过创新部署智能太阳能微电网储能系统,这个偏远海岛成功解决了电力供应难题。该系统将太阳能与高效储能技术紧密结合,即使在电网断电时,岛屿上的居民和游客依旧能够享受到稳定的电力供应,从而实现全面的能源自给自足。

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偏远山区的光伏微电网电力保障

在偏远山区,我们的光伏太阳能微电网系统为当地社区提供了稳定的电力支持。即便在恶劣天气条件或电力供应中断的情况下,系统依旧能够提供不间断的电力,显著提升了当地居民的生活质量,同时为脆弱的生态环境提供了有效保护。

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私人度假别墅的太阳能储能绿色方案

这座私人度假别墅采用了我们的太阳能微电网储能系统,将清洁太阳能转化并储存,以供日常电力消耗。即便远离电网,度假别墅依然能享受到绿色环保的电力供应,确保现代化生活与自然环境的完美融合。

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一种太阳能电池片色差和绕镀的测量表征方法与流程

2020年4月7日 · 本发明提供了一种太阳能电池片色差和绕镀的测量表征方法,此方法能够迅速且精确地测量太阳能电池片的色差和绕镀,并且输出结果为数字形式,便于统计分析,避免使用传统方法测量带来的人为误差,干扰判断。

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降低绕镀的原子层沉积制备方法及太阳能电池

2023年12月15日 · 本申请的技术方案,在原子层沉积制备过程中,抑制基片背面的绕镀现象,进而提高太阳能电池的转换效率。

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TOPCon电池重要技术之一:LPCVD工艺介绍

2024年10月9日 · LPCVD问题之一:清洗绕镀,可能导致去除不彻底面、或者掺杂多晶硅层遭刻蚀,影响电池效率; LPCVD法制备隧穿氧化层及掺杂多晶硅层,一般在磷掺杂后,再进行清洗绕镀。 LPCVD去绕镀的典型工艺流程: 1)HF酸单面清洗,去除绕镀区域内的磷硅玻璃PSG(即正面、侧面); 2)KOH碱液双面清洗,去除绕镀区域内的掺杂多晶硅(即正面、侧面)。 背面PSG层

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一种改善管式晶硅太阳能PERC电池正面绕镀的方法与流程

2019年4月5日 · 本发明改善了管式晶硅太阳能PERC电池正面绕镀现象,改善了电池的外观,提高了光电转换效率。 在常规背面钝化膜Al2O3/SiNx之间增设SiO2膜,提高了水膜的亲水性,有利于去除绕镀膜和保护背钝化膜不被气相侵蚀。

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TOPCon设备专题报告:规模量产,PECVD成为主流工艺

2023年2月10日 · 德国 Fraunhofer 研究中心在电池背面利用化学方法制备一层超薄氧化硅 ( ~1.5nm),然后再沉积一层掺杂多晶硅,二者共同形成了钝化接触结构,这种技术被称为隧穿氧化层钝化接触 ( TOPCon)技术。 从电池结构正面看,PERC 电池从外及里,依次为 SiNx 膜、N 型发射极(n+)、P型硅片基底;对比,TOPCon 电池由外到里,依次为 SiNx 膜、Al2O3膜、P

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一种减少绕镀和色差的PERC太阳能电池制作方法与流程

2020年4月29日 · 本发明涉及太阳能电池技术领域,尤其是一种减少绕镀和色差的perc太阳能电池制作方法。 背景技术: 单晶perc太阳能电池的工艺简单、成本较低,是目前市场上最高流行的高效太阳能电池之一。

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LPCVD和PECVD制备掺杂多晶硅层中的问题及解决方案

PECVD镀膜,也会产生轻微绕镀问题,但有两种方式解决。 第一名种是 清洗绕镀 :根据 PECVD沉积膜原理,硅片置于基片台上,侧边也暴露在反应气体内,因此PECVD法制备多晶硅薄膜也会出现轻微绕镀现象,但仅在侧边及硅片正面边缘处。

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一文读懂Topcon多晶硅的绕度解决方法

2024年6月5日 · 研究了这些工艺对工业用 TOPCon 太阳能电池的包覆多晶硅层、光学性能、效率(Eff)、开路电压(Voc)、填充因子(FF)、串联电阻(Rser)和反向偏置结漏电流(IRev)的影响。

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Topcon-LPCVD

2023年9月11日 · ① 绕镀异常产生原因:因为LPCVD沉积膜不具备方向性,因电池片立于石英舟(碳化硅陶瓷制品可替代石英)之上,氧化层及本征多晶硅层也同样会附着在电池片的侧面及正面,形成包裹,即"绕镀"现象。

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LPCVD绕镀石英管异常解决

2024年10月9日 · 可能导致去除不彻底面、或者掺杂多晶硅层遭刻蚀,影响电池效率,LPCVD法制备隧穿氧化层及掺杂多晶硅层,一般在磷掺杂后,再进行清洗绕镀。 ④ LPCVD去绕镀典型工艺流程: a. HF酸单面清洗,去除绕镀区域内的磷硅玻璃PSG(即正面、侧面); b. KOH碱液双面清洗,去除绕镀区域内的掺杂多晶硅(即正面、侧面)。 背面PSG层起到保护隧穿氧化层及掺杂

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